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本文標題:"電阻測量應在比測量較低純度樣品更低溫度下進行"

發布者:yiyi ------ 分類: 行業動態 ------ 人瀏覽過-----時間:2015-5-6 5:13:44

電阻測量應在比測量較低純度樣品更低溫度下進行

 
測量電阻率以便電子在外表而上的散射并不導致電阻率的明
顯增加.電阻測量應該在比測量較低純度樣品更低的溫度下
進行。這是因為雜質對電阻率的貢獻是測量到的電阻率值減
去由于熱激發引起的電阻率.在液氫溫度下,“理想”電阻
率在高純鋁總電阻率中僅是一個小部分,但它在區熔提純鋁
中變得非常重要.為了避免純度貢獻上由此所導致的大的誤
差,測量在液氮溫度下進行,理想電阻率與殘留電阻率相比
因而很小。
 
    電阻率測量確定純度也已成功地應用于其它金屬。對子
銅來說,如果在適當條件一「進行退火,特別是應防止導致電
阻率很大改變的氧的存在,那么這個方法是靈敏的,并確實
給出了好的結果。
 
    除了測定純度外,電阻率測量在物理金屬學中還得到了
其它應用.例如雜質在點陣中不同位置對電阻率有不同影響
就被用來研究沉淀.純金屬中來自雜質的電阻率很小,因而
低溫電阻率可以靈敏地鑒定點陣缺陷的存在.
 
    總之,用低溫電阻率測量研究純金屬,由于能快速測定
雜質總量,因而是一個很有成果的方法.但得出的是半定量
的結果,這些結果應該與分析數據相比較,而分析方法是測
定每種存在雜質的濃度的唯一方法。
 

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