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本文標(biāo)題:"不同的顯微微觀測量技術(shù)在工業(yè)制造的應(yīng)用簡介"

發(fā)布者:yiyi ------ 分類: 行業(yè)動態(tài) ------ 人瀏覽過-----時間:2015-6-28 18:43:36

不同的顯微微觀測量技術(shù)在工業(yè)制造的應(yīng)用簡介

 
    如果能保證形成和利用參考光波的元件穩(wěn)定,那么第一個條
件比較容易做到。必須把照像底版放置到,在它上面進(jìn)行記錄全
息圖時的位置上,才能保證第二個條件。
 
    在不同的時間以真實比例進(jìn)行的干涉測量,可以觀察并不間
斷地記錄(例如,  用顯微攝影機(jī))受動力載荷而變形的過程;可
以實現(xiàn)隨機(jī)檢驗,并將各種透明物體和鏡象眨射物體的廢品挑出
。這樣便解決了用干涉圖象測定零級條紋和變形變化的規(guī)律的困
難。一個全息圖可以記錄許多各種相位的和發(fā)散的反射物體的干
涉圖,這樣可以加速檢驗過程。為此,必需有專門的裝置,使全
息閡億曝光的位置上進(jìn)行顯影,或是精確地安裝處理后的全啟、
圖。
    兩次曝光的全息干涉測量技術(shù),就是全息圖在顯影處理之前
進(jìn)行兩次曝光:一次在表面原始狀態(tài)時曝光;另一次在表面受到
變形后曝光。這兩次曝光用同樣的參考光波。這種方法不會產(chǎn)生
再現(xiàn)光波與物體光波重合的問題。全息圖兩次曝光結(jié)束后,無論
是物體本身,還是全息照像裝置的光學(xué)元件就都不很重要了。無
論是顯示表面原始狀態(tài)的比較光波,還是相當(dāng)于變化了的表面光
波,  用與原始參考光波相仿的光波照射全息圖時,都可以同時
使
 

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